Après avoir réalisé l’exploit de produire à gros volumes des puces de 7 nanomètres sans passer par la lithographie EUV, la Chine travaille sur l’étape d’après de 5 nanomètres. Selon des experts interrogés par le site spécialisé EETimes, elle aurait la capacité d’y arriver dans moins de trois […]
Après avoir réalisé l’exploit de produire à gros volumes des puces de 7 nanomètres sans passer par la lithographie EUV, la Chine travaille sur l’étape d’après de 5 nanomètres. Selon des experts interrogés par le site spécialisé EETimes, elle aurait la capacité d’y arriver dans moins de trois […]
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Author: Redaction
