Après avoir réalisé l’exploit de produire à gros volumes des puces de 7 nanomètres sans passer par la lithographie EUV, la Chine travaille sur l’étape d’après de 5 nanomètres. Selon des experts interrogés par le site spécialisé EETimes, elle aurait la capacité d’y arriver dans moins de trois […] Lire l'article
Après avoir réalisé l’exploit de produire à gros volumes des puces de 7 nanomètres sans passer par la lithographie EUV, la Chine travaille sur l’étape d’après de 5 nanomètres. Selon des experts interrogés par le site spécialisé EETimes, elle aurait la capacité d’y arriver dans moins de trois […] Lire l'article
Author: Redaction
